Dennis McKean: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (26)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

Design of a positive resist for projection lithography in the mid-UV

Grant Willson, Robert Miller, Dennis McKean, Nicholas Clecak, Terry Tompkins, Donald Hofer, Josef Michl, John Downing

Журнал:

Polymer Engineering & Science

Рік:

1983

Мова:

english

Файл:

PDF, 663 KB

english, 1983

2

SPIE Proceedings [SPIE SPIE'S 1993 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 28 February 1993)] Advances in Resist Technology and Processing X - Base-catalyzed photosensitive polyimide

McKean, Dennis R., Wallraff, Gregory M., Volksen, Willi, Hacker, Nigel P., Sanchez, Martha I., Labadie, Jeff W., Hinsberg, William D.

Рік:

1993

Мова:

english

Файл:

PDF, 885 KB

english, 1993

3

SPIE Proceedings [SPIE 1988 Microlithography Conferences - Santa Clara, CA (Wednesday 2 March 1988)] Advances in Resist Technology and Processing V - Novolac Based Deep-UV Resists

McKean, Dennis R., MacDonald, Scott A., Clecak, Nicholas J., Willson, C. Grant, MacDonald, Scott A.

Рік:

1988

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.61 MB

english, 1988

4

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Advances in Resist Technology and Processing XII - Thick film photoresist resolution enhancement with surfactant surface treatment

McKean, Dennis R., Russell, Thomas P., Renaldo, Alfred F., Allen, Robert D.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 654 KB

english, 1995

5

Letters to the Editor

Dennis V. Lindley, W. Scott Overton, Stephen V. Stehman, A. S. Hedayat, Bruno D. Zumbo, Donald W. Zimmerman, Joseph W. McKean, Thomas J. Vidmar, Dan C. Stone, Robert B. Ilderton, Lee R. Abramson, Paul

Журнал:

The American Statistician

Рік:

1996

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.02 MB

english, 1996

6

Author Correction: Elevated faecal 12,13-diHOME concentration in neonates at high risk for asthma is produced by gut bacteria and impedes immune tolerance

Levan, Sophia R., Stamnes, Kelsey A., Lin, Din L., Panzer, Ariane R., Fukui, Elle, McCauley, Kathryn, Fujimura, Kei E., McKean, Michelle, Ownby, Dennis R., Zoratti, Edward M., Boushey, Homer A., Caban

Журнал:

Nature Microbiology

Рік:

2019

Файл:

PDF, 532 KB

2019

7

Phenotypic changes associated with deletion and overexpression of a stage-regulated gene family in Leishmania

Paul G. McKean, Paul W. Denny, Ellen Knuepfer, Jane K. Keen, Deborah F. Smith

Журнал:

Cellular Microbiology

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 843 KB

english, 2001

8

Acid photogeneration from sulfonium salts in solid polymer matrices

Dennis R. McKean, Ulrich Schaedeli, Scott A. MacDonald

Журнал:

Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry

Рік:

1989

Мова:

english

Файл:

PDF, 501 KB

english, 1989

9

The effect of polymer structure on the efficiency of acid generation from triarylsulfonium salts

Dennis R. McKean, Ulrich P. Schaedeli, Paul H. Kasai, Scott A. Macdonald

Журнал:

Journal of Polymer Science Part A: Polymer Chemistry

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 665 KB

english, 1991

10

Ring opening of cyclopropyl ketones by trimethylsilyl iodide

Miller, Robert D., McKean, Dennis R.

Журнал:

Journal of Organic Chemistry

Рік:

1981

Мова:

english

Файл:

PDF, 429 KB

english, 1981

11

Approaches to the synthesis of the insect juvenile hormone analog ethyl 3,7,11-trimethyl-2,4-dodecadienoate and its photochemistry

Henrick, Clive A., Willy, W. Edward, McKean, Dennis R., Baggiolini, Enrico, Siddall, John B.

Журнал:

Journal of Organic Chemistry

Рік:

1975

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.07 MB

english, 1975

12

Synthesis and Properties of Diazopiperidiones for Use in Nonchemically Amplified Deep UV Photoresists

Tattersall, Peter I., Breslin, David, Grayson, Scott M., Heath, William H., Lou, Kathleen, McAdams, Christopher L., McKean, Dennis, Rathsack, Benjamen M., Willson, C. Grant

Журнал:

Chemistry of Materials

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 111 KB

english, 2004

13

Characterization of a Novolak-based three-component deep-UV resist

McKean, Dennis R., MacDonald, Scott A., Johnson, Robert D., Clecak, Nicholas J., Willson, C. Grant

Журнал:

Chemistry of Materials

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.55 MB

english, 1990

14

Methylated poly(4-hydroxystyrene): A new resin for deep-ultraviolet resist application

McKean, Dennis R.

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 683 KB

english, 1990

15

SPIE Proceedings [SPIE Micro - DL Tentative - San Jose, CA (Sunday 1 March 1992)] Advances in Resist Technology and Processing IX - Acid generation and acid diffusion in photoresist films

McKean, Dennis R., Allen, Robert D., Kasai, Paul H., Schaedeli, Ulrich P., MacDonald, Scott A., Novembre, Anthony E.

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 856 KB

english, 1992

16

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Advances in Resist Technology and Processing XII - Lithographic performance of a positive photoresist for thick-film applications

Renaldo, Alfred F., Lauchlan, Laurie J., Hofer, Donald C., Hinsberg, William D., McKean, Dennis R., Santini, Hugo A., Willson, C. Grant, Allen, Robert D.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.18 MB

english, 1995

17

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography Conference - Santa Clara, CA (Monday 2 March 1987)] Advances in Resist Technology and Processing IV - New Diazoketone Dissolution Inhibitors For Deep U.V. Photolithography

Willson, C.Grant, Miller, Robert D., McKean, Dennis R., Pederson, Lester A., Bowden, Murrae J.

Рік:

1987

Мова:

english

Файл:

PDF, 5.84 MB

english, 1987

18

SPIE Proceedings [SPIE San Diego, '91, San Diego, CA - San Diego, CA (Sunday 21 July 1991)] Photopolymer Device Physics, Chemistry, and Applications II - Polymer effects on the photochemistry of triarylsulfonium salts

McKean, Dennis R., Allen, Robert D., Kasai, Paul H., MacDonald, Scott A., Lessard, Roger A.

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 447 KB

english, 1991

19

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '90, 4-9 Mar, San Jose - San Jose, CA (Sunday 4 March 1990)] Advances in Resist Technology and Processing VII - Modified polyhydroxystyrenes as matrix resins for dissolution inhibition type photoresists

Pawlowski, Georg, Sauer, Thomas P., Dammel, Ralph R., Gordon, Douglas J., Hinsberg, William D., McKean, Dennis R., Lindley, Charlet R., Merrem, Hans-Joachim, Roeschert, Heinz, Vicari, Richard, Willson

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 964 KB

english, 1990

20

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '90, 4-9 Mar, San Jose - San Jose, CA (Sunday 4 March 1990)] Advances in Resist Technology and Processing VII - Highly etch resistant, negative resist for deep-UV and electron beam lithography

McKean, Dennis R., Clecak, Nicholas J., Pederson, Sr., Lester A., Watts, Michael P. C.

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 839 KB

english, 1990

21

Letters to the Editor

Jean D. Gibbons, David Rothman, Alvah C. Bittner, Jr., Paul I. Feder, Peter Bryant, Patrick E. O'Neil, Roy L. Streit, Harlley E. McKean, Frederick L. Newman, Dennis L. Young, P. S. Levy, S. H. Rosenbe

Журнал:

The American Statistician

Рік:

1974

Мова:

english

Файл:

PDF, 970 KB

english, 1974

22

SPIE Proceedings [SPIE 26th Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 25 February 2001)] Advances in Resist Technology and Processing XVIII - Rational design of bleachable nonchemically amplified DUV photoactive compounds

Rathsack, Benjamen M., Houlihan, Francis M., Tattersall, Peter I., Tabery, Cyrus E., Lou, Kathleen, Stachowiak, Timothy B., Medeiros, David R., Albelo, Jeff A., Pirogovsky, Peter Y., McKean, Dennis R.

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.35 MB

english, 2001

23

Functional analysis of Leishmania stage-regulated proteins

Smith, DF, Denny, PW, Keen, JK, Knuepfer, E, Ma, S, McKean, PG

Журнал:

Biochemical Society Transactions

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 141 KB

english, 2000

24

Conversion of Alkyl Chlorides to Bromides, Selective Reactions of Mixed Bromochloroalkanes, and Halogen Exchange

Willy, W. Edward, McKean, Dennis R., Garcia, Barbara A.

Журнал:

Bulletin of the Chemical Society of Japan

Рік:

1976

Файл:

PDF, 1.05 MB

1976

25

Photoacid generation in polymeric films.

MacDonald, Scott A., McKean, Dennis R.

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

1990

Мова:

english

Файл:

PDF, 401 KB

english, 1990

26

ChemInform Abstract: CONVERSION OF ALKYL CHLORIDES TO BROMIDES, SELECTIVE REACTIONS OF MIXED BROMOCHLOROALKANES, AND HALOGEN EXCHANGE

WILLY, W. EDWARD, MCKEAN, DENNIS R., GARCIA, BARBARA A.

Журнал:

Chemischer Informationsdienst

Рік:

1976

Мова:

german

Файл:

PDF, 252 KB

german, 1976